پاورپوینت پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار ویژگی ها روش ها و کاربردها
فرمت فایل دانلودی: .zipفرمت فایل اصلی: ppt
تعداد صفحات: 20
حجم فایل: 1245 کیلوبایت
قیمت: 12000 تومان
توضیحات:
پاورپوینت با موضوع پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار ویژگی ها روش ها و کاربردها، در قالب ppt و در 20 اسلاید، قابل ویرایش.
بخشی از متن پاورپوینت:
واژه رسوبدهی فیزیکی بخار برای اولین بار در سال 1966 در کتاب vapor deposition) ) نوشته (J.M. Blocher ,J.H.Oxley ,C.F.Powell) عنوان شد اما خیلی قبل تر از آنها در سال 1838، آقای Michael faraday از روش PVD برای رسوب دادن پوشش های خاصی استفاده کرد.
یک نوع رسوبدهی تحت خلاء می باشد که این واژه عموماً برای هر نوع رسوبدهی فیلم های نازک توسط متراکم کردن مواد تبخیر شده بر روی یک سطح انجام می شود اطلاق می گردد.
عبارت رسوب فیزیکی بخار ( (pvdدر اصل برای رسوب دادن فلزات توسط انتقال در خلا و بدون انجام واکنش شیمیایی استفاده می شود.
از این فرایند برای تولید رسوبهایی از فلزات خالص ‚آلیاژها ‚ترکیبات و سرامیک ها بر روی انواع مختلف زیر لایه ها استفاده می شود
سرعت تشکیل پوشش در این روش تا حد 50 میکرون در دقیقه می تواند باشد.
کاربرد این روش تقریبا تمام زمینه های صنعتی وتکنولوژی را در بر گرفته و دامنه ی وسیعی از خواص سطحی مانند خواص الکتریکی ‚نوری‚مکانیکی وشیمیایی را میتوان توسط آن بهبود بخشید.
فهرست مطالب:
مقدمه
روش های ایجاد پوشش های PVD
رسوبدهی از طریق تبخیرسازی سطحی
مراحل ایجاد لایه پوشش
روش های ایجاد بخار
کاربردها
روش پراکنشی
انواع روش های پراکنشی
ویژگی های روش پراکنشی
پوشش دهی یونی
مزایای پوشش دهی یونی
مزایای پوشش های PVD
مزایا و معایب PVDنسبت به CVD
پاورپوینت با موضوع پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار ویژگی ها روش ها و کاربردها، در قالب ppt و در 20 اسلاید، قابل ویرایش.
بخشی از متن پاورپوینت:
واژه رسوبدهی فیزیکی بخار برای اولین بار در سال 1966 در کتاب vapor deposition) ) نوشته (J.M. Blocher ,J.H.Oxley ,C.F.Powell) عنوان شد اما خیلی قبل تر از آنها در سال 1838، آقای Michael faraday از روش PVD برای رسوب دادن پوشش های خاصی استفاده کرد.
یک نوع رسوبدهی تحت خلاء می باشد که این واژه عموماً برای هر نوع رسوبدهی فیلم های نازک توسط متراکم کردن مواد تبخیر شده بر روی یک سطح انجام می شود اطلاق می گردد.
عبارت رسوب فیزیکی بخار ( (pvdدر اصل برای رسوب دادن فلزات توسط انتقال در خلا و بدون انجام واکنش شیمیایی استفاده می شود.
از این فرایند برای تولید رسوبهایی از فلزات خالص ‚آلیاژها ‚ترکیبات و سرامیک ها بر روی انواع مختلف زیر لایه ها استفاده می شود
سرعت تشکیل پوشش در این روش تا حد 50 میکرون در دقیقه می تواند باشد.
کاربرد این روش تقریبا تمام زمینه های صنعتی وتکنولوژی را در بر گرفته و دامنه ی وسیعی از خواص سطحی مانند خواص الکتریکی ‚نوری‚مکانیکی وشیمیایی را میتوان توسط آن بهبود بخشید.
فهرست مطالب:
مقدمه
روش های ایجاد پوشش های PVD
رسوبدهی از طریق تبخیرسازی سطحی
مراحل ایجاد لایه پوشش
روش های ایجاد بخار
کاربردها
روش پراکنشی
انواع روش های پراکنشی
ویژگی های روش پراکنشی
پوشش دهی یونی
مزایای پوشش دهی یونی
مزایای پوشش های PVD
مزایا و معایب PVDنسبت به CVD
پرداخت با کلیه کارتهای عضو شتاب امکان پذیر است.
پاورپوینت درس اول علوم هشتم: مخلوط و جدا سازی مواد